Kategori Produk

Hubungi kami

Aone Titanium Metal Matrials

Target Tungsten Murni 99,95% dengan W1 ASTM B760

Target sputtering alloy titanium Tungsten dapat digunakan untuk membuat penghalang difusi untuk chip semikonduktor, sel surya baru dan rangkaian film tipis keramik. Target sputtering alloy silikon tungsten dapat digunakan untuk lapisan kontak ohmik dari chip semikonduktor.

Kirim permintaan

Obrolan Sekarang

Detail produk

Target Tungsten Murni 99,95% Dengan W1 ASTM B760

Target sputtering alloy titanium Tungsten dapat digunakan untuk membuat penghalang difusi untuk chip semikonduktor, sel surya baru dan rangkaian film tipis keramik.

Target sputtering alloy silikon tungsten dapat digunakan untuk lapisan kontak ohmik dari chip semikonduktor.

Mengetik	W (wt%)	Ti (wt%)	Si (wt%)	Kemurnian (wt%)	Massa jenis(%)	Ukuran Butir & (μm)	Dimensi (maks.mm)	Ra
WTi10	90 ± 0,5	10 ± 0,5	/	99,9-99.999	≥99	<>	400 × 40	≤1.6
WTi20	80 ± 0,5	20 ± 0,5	/	99,9-99.995	≥99	<>	400 × 40	≤1.6
WSi10	90 ± 0,5	/	10 ± 0,5	99,9-99.999	≥99	<>	400 × 40	≤1.6
WSi20	80 ± 0,5	/	20 ± 0,5	99,9-99.999	≥99	<>	400 × 40	≤1.6

Jika Anda mencari 99,95% target tungsten murni dengan w1 astm b760, selamat datang membeli kualitas dan Tungsten and Tungsten Alloy Target yang tahan lama untuk dijual dari kami. Kami adalah salah satu produsen produk aluminium terkemuka dan pemasok di Cina. Kami akan menawarkan harga yang kompetitif dan pelayanan prima.

Sepasang:Industiral Bright Gr5 dan Pure Titanium Bar untuk Turbojet Otomatis ASTM B348 Berikutnya:Gr5 Titanium Flange dan Forged Made in China dengan ASTM B381

Produk-produk terkait

Produk

Hubungi kami

Target Tungsten Murni 99,95% dengan W1 ASTM B760

Detail produk

Permintaan